10.3321/j.issn:0454-5648.2004.03.008
化学溶液沉积法制备掺镧Bi2Ti2O7薄膜及其特性的研究
采用化学溶液沉积法,在Si(100)衬底上制备了(Bi0.925La0.075)2Ti2O7薄膜.通过对其X射线衍射图谱分析表明:用一定量的La3+来代替部分Bi3+,提高了Bi2Ti2O7相薄膜的稳定性.研究发现:经过高温(850 ℃)退火处理后,该薄膜的结晶性和取向性都很好,[111]方向取向率为90%.根据XRD谱图中的 (444)衍射峰,计算出晶格常数a≈20.66(A).薄膜的电流-电压和电容-电压特性的测量结果表明,该薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数.
掺镧钛酸铋、薄膜、化学溶液沉积法、X射线衍射
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O484.42(固体物理学)
国家重点实验室基金04010125
2004-05-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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