液态源雾化化学沉积法制备(Pb,La)TiO3薄膜

摘要：

研究了在Pt/Ti/SiO2/Si基片上用液态源雾化化学沉积法制备镧钛酸铅[(Pb, La)TiO3,PLT]薄膜的工艺, 并分析了各种因素对其相结构的影响.采用金属有机物热分解工艺的先体溶液, 在沉积阶段, 用超声波将先体溶液雾化, 产生微米级的汽雾, 由载气(Ar)引入沉积室进行沉积, 并在沉积室进行预热处理. 重复上述过程, 直到膜厚达到要求, 再进行退火处理得到均匀、致密的薄膜.此工艺各项参数如下:沉积前沉积室内气压为4×10-3Pa; 沉积时沉积室内气压为8×103～9×103 Pa, 沉积时基片温度为20～25 ℃; 预处理温度为300 ℃; 最佳热处理温度为600 ℃; 超声雾化器工作频率为1.7 MHz; 薄膜沉积速率为3 nm/min.XRD和SEM图分析说明,制备的铁电薄膜具有钙钛矿结构.

关键词：镧钛酸铅、液态源雾化化学沉积、薄膜、X射线衍射

所属期刊栏目：31

分类号：TN304.055(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：556-559