N含量对CN薄膜折射率的影响

摘要：

采用射频磁控溅射法沉积了CN薄膜, 利用XPS, XRD, FTIR等测试手段研究了CN薄膜的成分和结构.结果表明: CN薄膜为非晶结构; CN薄膜中n(N)/n(C) 随沉积室中N2浓度的增加而增大, n(N)/n(C)最高可达到0.33; CN薄膜中主要含有CC, C-C, C-N, CN, C≡N等原子基团; N在CN薄膜中主要起稳定sp2 C的作用.利用椭圆偏振仪测量了CN薄膜的折射率和厚度.对薄膜的折射率与N含量之间关系的研究发现: CN薄膜的折射率随n(N)/n(C)的增加而减小; CN薄膜的折射率由2.2减小到1.8.

关键词：氮化碳薄膜、折射率、结构、射频溅射沉积

所属期刊栏目：31

分类号：TQ174

资助基金：总装备部科研项目;湖北省武汉市青年科技晨光计划

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：465-469