期刊专题

10.3321/j.issn:0454-5648.2003.01.019

SiO2-C-N2-O2系统合成SiC反应机理的研究

引用
在实验室使用工业原料石英砂和无烟煤,于1 350,1 450,1 550℃合成了β-SiC.通过X射线衍射法并结合热力学理论计算,研究温度在1 600℃以下SiO2-C-N2-O2系统的主要化学反应过程.认为该系统合成SiC的反应机理是:反应过程主要分3个阶段,反应初期以气相反应为主,主要反应式为SiO+2C=SiC+CO;反应中、后期以固相反应为主,主要反应式为SiO2+3C=SiC+2CO,其反应中间过程为:Si2N2O+O2=SiO2+SiO+N2和3SiO+3C+2N2=Si3N4+3CO.

碳化硅、反应机理、中间过程

31

TQ163.4

国家自然科学基金50174046

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

91-94

暂无封面信息
查看本期封面目录

硅酸盐学报

0454-5648

11-2310/TQ

31

2003,31(1)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn