ZrO2溅射膜的柱状生长机制

摘要：

气相沉积ZrO2膜常为柱状结构, 要更好地控制ZrO2膜性能, 需要研究ZrO2膜中柱状结构的形成和演化规律. 在射频溅射条件下沉积了ZrO2膜, 发现该膜的柱状晶具有{111}面织构, 其底层可能还有等轴晶. 提出以下柱状晶形成机制:在光滑(玻璃)基片上形成的柱状晶源自于在基片表面形成的具有{111}面织构的最初晶核; 在较为粗糙(多晶Al2O3)基片表面上形成的柱状晶源自于〈111〉晶向与沉积物质流方向一致的晶核择优生长及随后对其它取向的小晶核的吞噬而形成的晶核群. 基片表面粗糙时, 由于柱状晶核经过晶核筛选产生, 柱状晶底部可能有等轴晶层;若温度较低, 出现等轴晶层可能性更大.

关键词：氧化锆、薄膜、溅射、织构

所属期刊栏目：29

分类号：O484.1(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：443-446