溅射总压对氧化钒薄膜的结构及电致变色性质的影响

摘要：

采用高频磁控溅射工艺制备了两种不同性能的V2O5薄膜,并研究了溅射总压对其微观结构、循环伏安特性及电致变色特性的影响. 结果表明:当功率一定(3.8W·cm-2)时,在高气压沉积的V2O5薄膜中出现了微晶相,而在低气压沉积的薄膜中为非晶相. 从循环伏安过程中实时记录的透过率变化曲线可见:随着Li+离子和电子的双重注入,薄膜在某一波长处的透过率前一阶段是增加或降低,而后一阶段却相反. 含微晶相的薄膜上述现象更为明显,而且其储存Li+离子的容量也要大许多. 应用能带结构理论定性地解释了V2O5薄膜复杂的电致变色现象.

关键词：电致变色、氧化钒薄膜、光学性质、磁控溅射

所属期刊栏目：27

分类号：TQ174

资助基金：科技部攀登计划07-01;中国科学院资助项目59782006;国家重点实验室基金

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：28-33