N+注入Ti/Si3N4的摩擦行为研究

摘要：

研究了Si3N4陶瓷材料及镀膜Ti/Si3N4材料当N+注入前后的摩擦学行为,考察了样品表面划痕轨迹的SEM形貌,结合X射线衍射,对离子注入改性机理和摩擦学性能进行了探讨.在Ti和Si3N4界面上离子的混合及形成Ti2N相使Ti膜的附着力增加.

关键词：离子注入、Ti/Si3N4、摩擦学行为、离子束混合

所属期刊栏目：26

分类号：TQ17

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：206-209