10.3321/j.issn:1000-0593.2007.06.018
不同电位影响5-硝基吲哚电化学聚合的光谱分析
三氟化硼乙醚+10%乙醚体系中,恒电位(1.23~2.23 V vs.SCE)条件下可以获得高质量聚膜(PNI),这是首次获得硝基取代高性能导电高分子膜材料.5-硝基吲哚(NI)的起始氧化电位为1.04 V vs.SCE.电流-时间曲线、FTLR和1H NMR结果均表明聚合电位对PNI膜质量有较大影响.低电位有利于NI的聚合,且有利于增加PNI膜的共轭链长;高电位会导致NI的副反应,从而降低:PNI膜的质量.同时红外光谱和1H NMR研究表明,NI的电化学聚合是通过2,3位进行的.
导电高分子、聚吲哚、电化学聚合、红外光谱、核磁共振波谱
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O657.3(分析化学)
国家自然科学基金20564001
2007-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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