期刊专题

10.3969/j.issn.1004-8138.2013.05.043

金属诱导低温制备多晶硅薄膜工艺新进展

引用
多晶硅薄膜由于兼具稳定性、高光敏性、便于大面积沉积等优势成为目前光伏领域的研究热点.本文综述了近几年金属诱导非晶硅薄膜晶化的新工艺,介绍了各种工艺条件对多晶硅薄膜材料的结构、金属含量的调控规律.最后展望了未来的发展趋势.

金属诱导晶化、非晶硅、多晶硅薄膜

30

O433.5+9;O743+4(光学)

中国地质大学北京大学生A类创新实验项目2012AG0078;中央高校基本科研业务费项目2012070

2013-10-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

2246-2250

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光谱实验室

1004-8138

11-3157/O4

30

2013,30(5)

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