功率密度对中频磁控溅射制备 AZO薄膜性能的影向

摘要：

利用中频磁控溅射法在普通玻璃衬底上沉积掺铝氧化锌(ZnO ∶ Al,简称AZO)薄膜,通过调整溅射功率密度参数得到沉积速率与功率密度之间的关系,制备了不同厚度的AZO薄膜.利用台阶仪、XRD、XPS、紫外可见分光光度计和Hall测试系统等方法研究了功率密度与厚度对AZO薄膜结构、组分、光学和电学性能的影响.实验结果表明,功率密度为4W/cm2、薄膜厚度为739nm时薄膜的综合性能较好,其电阻率为1.136×10-3Ω·cm,可见光区的平均透过率为90.5%.改善结晶质量能显著提高AZO薄膜的光电性能.

关键词：功率密度、掺铝氧化锌薄膜、中频磁控溅射、X射线光电子能谱法

所属期刊栏目：28

分类号：O657.61(分析化学)

资助基金：北京市自然科学基金资助项目2091003

在线出版日期：2011-12-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1629-1634