Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层的性能研究

摘要：

采用TiB2和Nd2O3微粒作为共掺杂微粒,用电沉积法制备Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层.用电感耦合等离子体-原子发射光谱法(ICP-AES)测定镀层中Ti、Nd元素的质量百分含量(wt%);分别研究镀层中Nd2O3微粒的含量对镀层的硬度、磨损质量和摩擦系数等的影响;用X衍射法(XRD)对Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层进行了表征.与Ni-TiB2复合镀层相比,Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层具有更高的硬度、更低的磨损质量和更小的摩擦系数.Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层的磨损质量是Ni-TiB2复合镀层的磨损质量的1/1.51.Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层的摩擦系数为0.600,Nd2O3微粒可使镀层的摩擦系数减小.Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层的耐磨性与该复合镀层中Nd2O3的含量相关.

关键词：电沉积、复合镀层、三氧化二钕、显微硬度、磨损

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分类号：O657.31;O434.13(分析化学)

资助基金：国家自然基金项目资助50972094;上海市教委重点学科资助J51503;上海市科委项目资助072305113,10410703000;上海应用技术学院项目资助KJ2008-07;上海高校特聘教授东方学者岗位计划资助DF2009-02

在线出版日期：2011-09-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：384-387