射频功率对PECVD制备类金刚石薄膜光学性能的影响

摘要：

采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法在石英片上生长类金刚石薄膜.通过紫外可见分光光度计、椭偏仪测试手段,研究不同射频功率条件下类金刚石薄膜的光学性能的变化.结果表明,射频功率对类金刚石薄膜的生长具有重要影响,在较低功率下生长的类金刚石薄膜,具有较高的光学透过率和较大的光学带隙.

关键词：类金刚石、等离子体增强化学气相沉积、功率、光学性能

所属期刊栏目：27

分类号：O657.32;O484.5(分析化学)

在线出版日期：2010-08-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：937-939