含氢类金刚石薄膜的生长及表征

摘要：

采用射频-等离子体辅助化学气相沉积(RF-PECVD)法在硅片、玻璃上生长类金刚石薄膜.通过Raman光谱、AFM等测试手段,研究不同的生长工艺条件下类金刚石薄膜的性质的变化.实验表明,RF-PECVD生长DLC膜,在上方电极处以及较低功率下可获得较高sp3含量的薄膜.

关键词：类金刚石薄膜、拉曼光谱、等离子体增强化学气相沉积.

所属期刊栏目：25

分类号：O657.37;O484.5(分析化学)

在线出版日期：2008-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：462-464