二氧化硅吸附铝离子的X射线光电子能谱(XPS)表征

摘要：

用X射线光电子能谱技术研究了不同pH条件下二氧化硅对铝离子的吸附作用.在pH分别为3.74、4.25和4.88条件下,吸附在二氧化硅表面的铝离子的Al2p电子结合能依次为74.30、74.90、75.10eV.根据Al3+在水溶液中的一级水解常数pK1=4.99,认为在pH=3.74条件下,吸附在二氧化硅表面的铝离子的形态为Al3+,而在其余两种pH条件下表面铝离子的形态为Al(OH)2+.

关键词：铝离子、吸附、X射线光电子能谱

所属期刊栏目：22

分类号：X131.3;O657.62(环境化学)

资助基金：国家自然科学基金40071046,49831005

在线出版日期：2005-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：666-668