10.3969/j.issn.1004-8138.2002.01.034
直流辉光等离子体辅助热丝CVD法沉积金刚石薄膜
采用直流辉光等离子体助进热丝化学气相沉积(CVD)的方法,低温(550—620℃)沉积得到晶态金刚石薄膜。经X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)分析表明:稍高气压有利于金刚石薄膜的快速、致密生长。
化学气相沉积、低温、金刚石
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O434.13(光学)
河北省自然科学基金599091
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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