用金属-配位体缓冲溶液流动注射络合滴定镉和镓的研究

摘要：

本文详细地论证了流动注射络合滴定的理论,推导了使用金属-配位体缓冲溶液流动注射络合滴定的理论计算公式,并用Cd-NTA和Ga-HEDTA分别加TAR和邻苯二酚紫作载流,滴定了金属离子镉和镓.流动注射络合定滴定镉和镓的实验进一步验证了公式的正确性和适用性.通过大量的理论和应用实验的数据优化了实验条件,同时也进一步修正了理论公式,使之与实际的络合反应更加符合.滴定镉和镓的最低检出浓度分别为5.00×-6mol/L和5.00×10-5mol/L,采样频率均为180次/h.试验了共存离子的影响及一些干扰离子的掩蔽.

关键词：金属-配位体缓冲溶液、流动注射、络合滴定、镉、镓

所属期刊栏目：16

分类号：O6(化学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：488-493