栅源双场板对GaN HEMT器件性能的影响

摘要：

本文对具有不同的栅源双场板结构的p-GaN栅HEMT器件的性能进行了比较,利用半导体器件仿真工具Synopsys TCAD对器件电学特性进行了分析.仿真结果显示:栅源复合场板结构能改善栅场板边缘的电场峰值,在源极场板边缘产生一个新的峰值,可使器件的击穿电压提高到1365V;间断栅场板与源场板复合结构,能在场板间隙位置产生新的电场峰值,更充分的利用漂移区耐压,使其击穿电压值达到1478V;栅源复合间断场板结构能缓解源场板对栅间断处电场峰值的抑制作用,器件击穿电压提高到最大值1546V.

关键词：AlGaN/GaN异质结、高迁移率晶体管(HEMT)、复合场板、电场峰值、击穿电压

所属期刊栏目：20

分类号：TN386(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金11175229

在线出版日期：2015-06-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：7-12