45nm PCRAM对GST CMP的挑战和解决方法

摘要：

本文报导GST(Ge2Sb2Te5)CMP工艺的挑战和解决方法.通过适当的抛光垫选择、工艺方案和清洗步骤优化解决GST的污染问题.实现最小氧化物损失的关键因素是抛光液的稀释比例和H2O2浓度的优化和控制过抛光.微微秒激光acoustics型测量工具证明适用于GST CMP工艺的在线和离线监控.

所属期刊栏目：19

分类号：TB(一般工业技术)

在线出版日期：2014-03-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：183-185