多晶硅材料制备中施主杂质磷的模拟计算研究
多晶硅是主要功能半导体材料.磷作为主要施主杂质,其含量直接影响多晶硅的半导体性能.多晶硅制备普遍采用改良西门子工艺,在密闭、复杂的动态工艺系统中,磷存在的化合物、含量及转化,无法实际有效掌握、但又非常重要;利用Aspen plus等软件对流程中主要的工艺系统模拟计算,并结合热力学反应分析,研究磷的分布规律、存在形式和量化含量;研究发现磷的主要化合物类型除PCl3,在还原或氢化炉这种高温、富氢条件下,PCl3会转化成PH3.在还原过程中磷存在富集效应.尾气回收解析塔解析效果的好坏影响着磷去除效果.研究结果表明,若要使还原多晶硅产品符合国标太阳能三级磷≤7.74ppba的要求,则对本文建立的模拟工艺流程,需要精馏前、后的SiHCl3中P应分别≤2557 ppbw和1.79ppbw.
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TB(一般工业技术)
2014-03-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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