不同缓冲层对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响

摘要：

本文采用射频反应磁控溅射法在玻璃基底上分别以Al2O3和AZO为缓冲层制备ZnO:Al (AZO)薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计等方法对薄膜的结构和光电性能进行表征.XRD和SEM的分析结果表明,在Al2O3和AZO缓冲层上生长的AZO薄膜均具有较好的C轴择优取向,薄膜表面光滑平整,薄膜的结晶质量得到改善;透射光谱表明所有样品在可见光范围内的透过率均超过80％;薄膜的导电性能得到提高.

关键词：AZO薄膜、缓冲层、晶体结构、光电性能

所属期刊栏目：18

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：湖南省研究生科研创新项目CX2011B399;湖南省自然科学基金09JJ6011;湖南省高等学校科研基金08A055

在线出版日期：2012-07-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：138-141