以Ni-Al为底电极的P(VDF-TrFE)铁电电容器的结构与性能

摘要：

应用磁控溅射法制备Ni-Al和Pt薄膜,溶胶-凝胶法制备P(VDF-TrFE)铁电共聚物薄膜,在SiO2/Si(001)衬底上首次构架了Pt/P( VDF-TrFE )/Ni-Al异质结电容器.X射线衍射(XRD)结果表明:Ni-Al薄膜为非晶结构,P(VDF-TrFE)薄膜具有较好的结晶质量.研究发现,在20 Hz测试频率下,Pt/P(VDF-TrFE)/Ni-Al电容器具有饱和的电滞回线,在90 V驱动电压下,剩余极化强度与矫顽场分别为7.6 μC/cm2和45.7 V.在外加电压为40 V时,薄膜的漏电流密度约为5.37×10-6A/cm2.漏电机制研究表明,Pt/P( VDF-TrFE )/Ni-Al电容器满足欧姆导电机制.铁电电容器经过109极化反转后没有发现明显的疲劳现象.

关键词：P(VDF-TrFE)、铁电薄膜、非晶Ni-Al、溶胶-凝胶

所属期刊栏目：18

分类号：TB3;TN2

资助基金：国家自然科学基金60876055、11074063;河北省自然科学基金项目E2009000207,E2011201092;河北省应用基础研究计划重点项目10963525D;高等学校博士点基金20091301110002

在线出版日期：2012-06-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：82-86