化学沉积参数对CdS薄膜前驱物利用率的影响

摘要：

采用化学水浴法,在醋酸镉、硫脲、氨水、醋酸铵的体系中制备CdS薄膜,设计L2556正交实验,研究了各沉积参数对前驱物利用率的影响.结果表明,随前驱物醋酸镉、硫脲各自浓度的增加,其自身的利用率下降,但另一方的利用率上升.前驱物的利用率随络合剂醋酸铵浓度的增加先增大后减小,随氨水浓度的增加先减小后增大；其利用率随反应条件温度的增大先增大后保持稳定,随转速的加快先保持稳定后降低,最后又小幅度上升.正交实验表明,当醋酸镉、硫脲、醋酸铵、氨水的浓度分别为2、14、30、400mM/L,温度为70℃,转速为200r/min时,前驱物醋酸镉与硫脲的综合利用率最高.

关键词：化学水浴沉积(CBD)、CdS薄膜、饱和厚度、前驱物利用率

所属期刊栏目：18

分类号：TN305(半导体技术)

资助基金：国家“十二五”科技支撑计划项目2011BAJ03B08;兰州市科技局计划项目2009-1-19

在线出版日期：2012-06-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：75-81