10.3969/j.issn.1007-4252.2011.06.013
Pyrex7740玻璃通孔湿法腐蚀技术研究
本文研究报道了Pyrex7740玻璃湿法腐蚀通孔技术.将四寸硅玻璃键合圆片的玻璃衬底减薄,并在玻璃上分别制备PECVD SiC、W/Au和PECVD多晶硅三种不同掩膜及其开口,最终利用40% HF腐蚀实现玻璃通孔.整个工艺过程与IC工艺兼容,并可进行圆片级批量加工.观察并研究纵向和横向腐蚀过程和通孔形貌,对比三种不同腐蚀掩膜掩蔽效果.本文研究结果为圆片级密封封装及其它MEMS器件奠定了基础.
Pyrex7740玻璃、湿法腐蚀、深宽比、腐蚀掩膜
17
TN305.7(半导体技术)
2012-03-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
596-599