单晶硅掺杂类型对化学镀Ni -P膜的影响

摘要：

本文采用化学镀的方法分别在P型、N型Si(100)表面制备了Ni -P膜,通过扫描电镜(SEM)及电子能谱仪(EDS)分析考察了同种制备条件下,在不同基底上镀膜的表面形貌和不同基底对镀层组分的影响；并用原子力显微镜(AFM)对不同基底上镀膜的平整度进行了研究.结果发现两种基底上的镀膜形貌、元素含量及镀膜平整度明显不同,以P型Si(100)作为基底时,膜层颗粒度及平整度较好.

关键词：化学镀、N型Si、P型Si、Ni-P膜

所属期刊栏目：17

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家自然科学基金项目51072184,51002143;航空科学基金项目2009ZE55003,2010ZF55013;河南省基础与前沿技术研究计划项目092300410139;河南省教育厅自然科学基金项目2011A140027

在线出版日期：2012-03-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：564-568