石英基片上(11O)取向PLZT薄膜及其光学性能研究

摘要：

在低成本的石英玻璃衬底上制备高性能电光薄膜非常有吸引力.本文采用溅射方法,并结合Pb3O4气氛退火工艺,在ITO/石英玻璃衬底上制备锆钛酸铅镧(PLZT 8/65/35)薄膜.结果表明:在优化工艺条件下,薄膜为(110)方向择优生长,表面均方根粗糙度为3.1nm,可见光范围内透过率为81.3%,消光系数为0.003.这种表面光滑和高光学性能的PLZT薄膜在集成光学和光电子器件具有重要的应用潜力.

关键词：铁电、锆钛酸铅镧(PLZT)、薄膜、光学性能

所属期刊栏目：17

分类号：TB321;O484(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金项目60607004

在线出版日期：2011-10-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：242-247