一种增磁装置在磁控射频溅射制备薄膜中的应用

摘要：

为提高射频溅射成膜率,本文报道了一种配置于磁控溅射装置的射频(RF)增磁装置.基于此装置的实验结果表明,在不对原有装置作任何改动的情况下,在完全相同的溅射参数下,采用此装置可使射频溅射成膜率增大为原来的4倍左右.进而,该装置提供了一种能有效地节省溅射制备时间,改善薄膜结构的简便易行的新型手段.

关键词：射频磁控溅射、增磁装置、沉积速率、薄膜结钩

所属期刊栏目：17

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973项目2007CB936300

在线出版日期：2011-10-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：237-241