硼碳氮薄膜的脉冲激光沉积及其光学性能

摘要：

采用脉冲激光沉积技术,在Si(100)和石英基片上制备了硼碳氮薄膜(BCN).利用X射线衍射(XRD),傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)和紫外-可见分光光度计对BCN薄膜进行了表征,研究了激光能量密度对BCN薄膜沉积速率、组分、结构和光学性能的影响.FTIR和XPS分析结果表明BCN薄膜中包含B-C,C-N和N-B化学键,说明实现了B、C和N的原子级化合.当激光能量密度从1 J/cm2增加到6 J/cm2时,BCN薄膜的沉积速率加快,N含量由7.2%增加到15%,光学禁带宽度(Eg)从4.02 eV降低到3.82 eV,Eg的降低主要与BCN薄膜中碳含量的增加有关.

关键词：硼碳氮薄膜、脉冲激光沉积、成分、光学性能

所属期刊栏目：16

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50772082

在线出版日期：2010-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：358-362