工艺条件对蓝宝石化学机械抛光的影响

摘要：

系统研究了抛光液的pH值、抛光压力和相对转速等因素对蓝宝石抛光速率和表面粗糙度的影响,研究结果表明:随pH值(9-12)的升高,抛光速率增加,表面粗糙度先降低后升高;随抛光压力和相对转速的增加,抛光速率先增加后降低,表面粗糙度先降低后升高.研究分析认为:pH值因影响在蓝宝石表面形成的水化层从而影响抛光速率和粗糙度;与抛光压力和相对转速相关的Hersey系数对抛光效果影响很大,当Hersey系数为24时,蓝宝石的抛光速率和表面平整度均达到最佳.

关键词：蓝宝石、化学机械抛光(CMP)、二氧化硅、pH值、Heresy系数

所属期刊栏目：16

分类号：Q614(理论生物物理学)

资助基金：上海市重点攻关项目08111100300;上海市启明星后计划07QH14017

在线出版日期：2010-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：206-210