Mo电极形貌对AIN薄膜择优取向生长的影响

摘要：

采用射频磁控溅射方法在不同形貌的Mo电极上制备了(002)择优取向的AIN薄膜.采用XRD、FESEM表征了Mo电极及AIN薄膜的结构、表面形貌及择优取向.结果表明,Mo电极的形貌影响AIN薄膜的择优取向生长,在较高溅射气压下沉积的Mo电极晶粒细小、分布均匀,有助于AIN薄膜(002)择优取向生长.

关键词：磁控溅射、Mo电极、AIN薄膜、择优取向

所属期刊栏目：16

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家自然科学基金50872031

在线出版日期：2010-06-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：183-186