10.3969/j.issn.1007-4252.2010.02.004
反转胶lift-Off工艺制备堆栈电感
本文采用反转胶lift-off工艺,对比分析了金属淀积方式、光刻胶的选择及光刻胶烘干时间对金属剥离效果的影响,制备出最小线宽4μm,最小间距4μm,厚度为1μm,线宽误差小于0.5μm的金属线条,并最终实现具有三层金属的堆栈电感,经光学显微镜和台阶仪观测表明,器件外观良好成品率高.
堆栈电感、lift-off、金属剥离、反转胶、SOI
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TB34(工程材料学)
国家自然科学基金项目10775166;浙江省科技厅项目2008C31002
2010-06-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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