分布反馈量子级联激光器的光栅制备

摘要：

利用全息曝光方法制备了分布反馈量子级联激光器的光栅掩模,选择和发展了恰当的用于InGaAs/InP材料的光栅腐蚀优化工艺,得到腐蚀规律,讨论了腐蚀机制.在量子级联激光器的In-GaAs/InP层上制备光栅得到分布反馈量子级联激光器,其单模特性较好,信噪比大于30dB.

关键词：分布反馈激光器、全息曝光、光栅制备

所属期刊栏目：15

分类号：TN365;O627.52+1(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60676026,60406008,60136010;863项目2006AA0320406;9732006CB6049036

在线出版日期：2009-12-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：471-476