改性SU8光刻胶的光学特性及其工艺

摘要：

通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结构的集成制造能力.

关键词：最小曝光剂量、PAG、集成制造

所属期刊栏目：15

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家重点实验室基金资助9140C7903070608,9140C7903060706

在线出版日期：2009-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：259-263