柔性FeCoSiB非晶磁弹性薄膜的应力阻抗效应

摘要：

采用直流磁控溅射方法在柔性Kapton基片上沉积了FeCoSiB薄膜,研究了偏置磁场、溅射气压以及测试频率对薄膜应力阻抗效应的影响规律.结果表明,本文中优化的溅射气压为1.5 Pa,强的偏置磁场可形成强的横向各向异性,从而显著提高材料的应力阻抗效应.随着测试频率从0.1MHz升高到30 MHz,薄膜的应力阻抗效应显著增强.

关键词：柔性基底、FeCoSiB非晶磁弹性薄膜、应力阻抗效应

所属期刊栏目：14

分类号：TB3;TQ3

资助基金：自然科学基金50501004;国防预研基金9140A23060307DZ0223

在线出版日期：2008-12-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：907-910