期刊专题

10.3969/j.issn.1007-4252.2008.05.005

PDMS氧等离子体长效活性表面处理及与Si的键合

引用
为了实现室温、常压下聚二甲基硅氧烷(PDMS)与硅的键合,本文利用氧等离子体分别对PDMS、硅进行表面改性处理.考察了等离子体射频电源功率、处理时间、氧气流量对PDMS-硅键合强度的影响.通过优化工艺适当降低PDMS表面被氧化的程度,可使PDMS活性表面的持续时间延长至45分钟,实现了PDMS-硅在室温常压下的永久性键合.通过X-射线光电子能谱(XPS)对改性后PDMS表面化学组分变化的分析,可推断出PDMS表面Si-OH的稳定性是影响键合强度的主要因素.

氧等离子体、聚二甲基硅氧烷(PDMS)、键合、XPS

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O634;TN405(高分子化学(高聚物))

国家863计划B类项目2006AA04Z367

2008-12-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

877-882

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功能材料与器件学报

1007-4252

31-1708/TB

14

2008,14(5)

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