微流控芯片透光性基底SU8曝光工艺

摘要：

研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响.研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的解决光刻胶内非定义曝光区域出现感光交联的问题.

关键词：微流控芯片、透光性基底、SU8光刻

所属期刊栏目：14

分类号：TB324(工程材料学)

资助基金：王宽诚教育基金;中国科学院知识创新工程项目

在线出版日期：2008-06-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：426-430