基片下磁场中溅射镀铜薄膜及其微结构

摘要：

介绍了基片下外加磁场的方法来溅射制备铜膜的实验,结果发现薄膜的表面形貌和微结构与平常磁控溅射法所得的有很大的不同.在溅射过程中等离子体的发光也明显增强.相同的输入功率下,自偏压较磁控溅射有明显下降.研究认为产生以上现象的原因是实验中采用的特殊装置产生的磁镜效应对溅射空间大量离子作用的结果.

关键词：溅射、外加磁场、磁镜、爱里斑、薄膜

所属期刊栏目：13

分类号：O484.1;O532+.11(固体物理学)

资助基金：江苏高校自然科学重大基础研究项目05KJA43006

在线出版日期：2008-04-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：625-629