磁场退火制备FePt/Ag垂直磁化薄膜

摘要：

采用磁控溅射法在自然氧化的单晶Si(100)基底上制备了(FePt/Ag)10多层薄膜,并在10kA/m磁场中进行了不同温度的真空热处理,研究了磁场作用下,不同热处理温度对FePt薄膜有序化转变及磁性能的影响.X射线衍射研究表明,在磁场作用下通过多层膜设计可以比较容易获得垂直生长的易磁化轴;选择适当的热处理温度、降低多层膜中每层膜厚可以制备出晶粒尺寸细小均匀的FePt/Ag垂直磁化薄膜,适用于高密度垂直磁记录介质材料.

关键词：记录介质、结构、磁性能、热处理

所属期刊栏目：13

分类号：TM273(电工材料)

资助基金：国家自然科学基金50325209;国家自然科学基金50572005

在线出版日期：2008-04-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：517-521