动态离子束混合沉积氧化钽薄膜的微观分析

摘要：

用动态离子束混合技术在铁基材料表面上制备氧化钽薄膜.用Ar+束溅射沉积薄膜的同时,分别用100 keV,2×1017/cm2的O+离子或100 keV,8×1016/cm2的Ar+进行辐照.对两种工艺下生成的氧化钽薄膜进行了XPS、AES及RBS分析研究,结果发现,Ar+辐照下制备的氧化物薄膜主要由符合化学剂量比的Ta2O5化合物组成,引入的碳污染少.O+辐照下制备的薄膜生成了低价的氧化钽,引入了大量的碳污染.

关键词：氧化钽薄膜、动态离子束混合、XPS、AES

所属期刊栏目：13

分类号：O484.1;O484.5(固体物理学)

在线出版日期：2008-04-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：512-516