离子束辅助脉冲激光沉积硼碳氮薄膜

摘要：

以烧结B4C为靶材料、在氮离子束辅助下用脉冲激光沉积方法制备了三元化合物硼碳氮(BCN)薄膜.用X光电子谱和傅立叶变换红外谱方法表征了制备的薄膜.结果表明,膜层中包含B-C、N-C、B-N键等复合结构,以B-C-N原子杂化的形式结合成键,而并非各种成分的简单混合.还探讨了成膜过程和相关机理,离子束中的活性氮有效地和脉冲激光对B4C靶烧蚀产生的硼和碳结合成键,氮离子束的辅助还能在一定程度上抑制氧杂质进入膜层,给衬底适当加温有利于提高氮的含量并影响薄膜的化学结构.

关键词：硼碳氮薄膜、脉冲激光沉积、离子束辅助沉积、Kauffman离子源

所属期刊栏目：13

分类号：TB321;TN249(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金19975012;10475019;教育部跨世纪优秀人才培养计划

在线出版日期：2007-05-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：101-106