低红外发射率TiO2/AgxCU1-x/Ti/TiO2纳米多层膜

摘要：

利用磁控溅射制备了银含量在100%至80%之间的单层银铜合金薄膜和TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米四层膜.利用X射线衍射、扫描电子显微镜、扫描俄歇微探针,分光光度计、红外发射率测量仪对样品进行表征,研究了单层金属膜和多层膜的光学、电学性质随着银含量的变化以及热处理前后薄膜性能的变化.结果表明:相同厚度的合金膜,随着Ag含量的降低,导电性能下降,Ag含量低于80%的合金已不适合作为多层膜的金属层;150 ℃大气下热处理30 min,纯银薄膜性质发生明显变化,明视透过率下降10%,方块电阻由2.5 W/□增加至18 W/□,红外发射率由0.17增加到0.69.AgCu合金薄膜性质未发生明显变化.方块电阻相近的TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米多层膜,经250 ℃大气下热处理40 min后,TiO2/Ag/Ti/TiO2和TiO2/Ag80Cu20/Ti/TiO2纳米多层膜的性质变化较小,热稳定性较好,其余的多层膜性质发生较大变化,红外发射率显著增加.

关键词：TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米多层膜、低红外发射率、磁控溅射

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分类号：O47(半导体物理学)

资助基金：国家自然科学基金90305026;中国工程物理研究院"双百"人才基金2005R0504

在线出版日期：2007-04-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：7-12