SrBi2Ta2O9铁电薄膜的三阶非线性光学性能的研究

摘要：

采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的SrBi2Ta2O9(SBT)薄膜,根据透射谱计算表明薄膜样品厚度为349nm,线性折射率为3.05.以锁模Nd:YAG激光器作为光源,利用Z-scan技术测定了薄膜的非线性光学性能.结果表明薄膜的非线性折射率n2＝2.56×10-8esu,非线性光吸收系数β＝3.93×10-4 esu,其三阶非线性极化率的实部和虚部分别为:Reχ(3)＝8.29×10-9 esu和Imχ(3)＝1.08×10-9 esu.

关键词：SrBi2Ta2O9、铁电薄膜、磁控溅射、Z-scan、三阶光学非线性

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分类号：O484.4+1(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金50272020;教育部科学技术研究重点项目03084;湖北省创新研究群体科学基金

在线出版日期：2006-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：461-464