10.3969/j.issn.1007-4252.2006.05.006
采用半背沟注入提高PDSOI nMOSFETs的热载流子可靠性
提出了一个提高PDSOI nMOSFETs可靠性的方法,并且研究了这种器件的热载流子可靠性.这种方法是在制造器件中,进行背沟道注入时只注入背沟道一半的区域.应力试验结果表明这种新的器件和常规器件相比,展示了较低的热载流子退变.2D器件模拟表明在漏端降低的峰值电场有助于这种器件提高的热载流子可靠性.
半背沟、热载流子、可靠性
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TN31/387(半导体技术)
2006-11-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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