OLEDs中CuPc缓冲层作用的AFM与XPS研究

摘要：

利用AFM对CuPc/ITO样品表面进行扫描,发现其生长较均匀,基本上覆盖了ITO表面的缺陷,且针孔较少.通过样品表面和界面的XPS谱图分析,进一步证实了这一结果,同时发现,CuPc可以抑制ITO中的化学组分向空穴传输层的扩散.有利于器件的性能的改善和寿命的提高.

关键词：缓冲层CuPc、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)

所属期刊栏目：12

分类号：TN383.1(半导体技术)

资助基金：中国科学院资助项目60276026;引进国际先进农业科技计划948计划ZS031-A25-012-G

在线出版日期：2006-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：120-124