Mo原子溅射能量对Mo/Si薄膜微结构的影响

摘要：

用磁控溅射法制备了Mo/Si薄膜,用AFM和XRD分别研究了Mo原子的溅射能量不同时,Mo/Si薄膜表面形貌和晶相的变化.通过比较发现,随着Mo原子溅射能量的增大,Mo/Si薄膜表面粗糙度增加,Mo和Si的特征X射线衍射峰也越来越强,并且Mo膜层和Si膜层之间生成了MoSi2.Mo原子的溅射能量是诱导非晶Si结晶和MoSi2生成的主要原因.

关键词：Mo/Si、MoSi2、溅射能量

所属期刊栏目：12

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：教育部"同步辐射博士生创新中心"研究生创新基金

在线出版日期：2006-05-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：81-85