10.3969/j.issn.1007-4252.2006.01.011
Si衬底GaN基LED理想因子的研究
首次报道Si衬底GaN LED的理想因子.通过GaN LEDI-V曲线与其外延膜结晶性能相比较,发现理想因子的大小与X射线双晶衍射摇摆曲线(102)面半峰宽有着对应关系:室温时Si衬底GaN LED的理想因子为6.6,对应着半峰宽707arcsec;理想因子为4.5时,对应半峰宽530arcsec.蓝宝石衬底GaN LED理想因子为3.0,其对应半峰宽401arcsec.硅衬底GaN LED理想因子大的原因可以归结为高缺陷密度所致,高缺陷密度使电流隧穿更容易进行.
Si衬底、GaN、LED、理想因子
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O472;TN312.8(半导体物理学)
国家科技攻关项目2003AA302160;电子信息产业发展基金
2006-04-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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