500℃下利用UHV/CVD在Si衬底上直接生长近平面Si0.5Ge0.5层

摘要：

利用UHV/CVD系统,在一个相对较低的温度500℃下,研究了Si1-xGex层中的Ge含量与生长条件之间的关系,此时的Si1-xGex层处于一种亚稳的状态.并直接在Si衬底上生长制备了10个周期的3.0 nm-Si0.5Ge0.5/3.4 nm-Si多量子阱.拉曼谱、高分辨显微电镜和光荧光谱对其结构和光学性能进行的表征表明这种相对较厚的Si0.5Ge0.5/Si多量子阱结构基本上仍是近平面生长的,内部没有位错,其在电学和光学器件上具有潜在的应用.

关键词：UHV/CVD、拉曼测量、光荧光、Si0.5Ge0.5

所属期刊栏目：12

分类号：TN304.2(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60336010;90401001;科技部科研项目TG 2000036603

在线出版日期：2006-04-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：5-9