10.3969/j.issn.1007-4252.2005.04.006
P型微晶硅材料及在薄膜太阳电池上的应用
采用VHF-PECVD技术沉积硼掺杂的P型微晶硅薄膜材料,在硅烷浓度(SC)为0.8%,反应气压93Pa时,随等离子体功率的增加,材料的晶化率和电导率先增大,后减小;薄膜的透过率随功率的增大而增加.将获得的P型微晶硅薄膜应用在微晶硅薄膜太阳电池中,电池结构为glass/p-μc-Si:H/I-μc-Si:H/n-μc-Si:H/Al, 厚度约1μm,没有背反射电极的情况下,电池效率达到了7.32%(Voc=0.520V,Jsc=21.33mA/cm2,FF=64.74%).
VHF-PECVD、微晶硅、太阳电池
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O484.4(固体物理学)
国家重点基础研究发展计划973计划G2000028203;G2000028202;教育部科学技术研究项目02167
2006-01-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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