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10.3969/j.issn.1007-4252.2005.04.006

P型微晶硅材料及在薄膜太阳电池上的应用

引用
采用VHF-PECVD技术沉积硼掺杂的P型微晶硅薄膜材料,在硅烷浓度(SC)为0.8%,反应气压93Pa时,随等离子体功率的增加,材料的晶化率和电导率先增大,后减小;薄膜的透过率随功率的增大而增加.将获得的P型微晶硅薄膜应用在微晶硅薄膜太阳电池中,电池结构为glass/p-μc-Si:H/I-μc-Si:H/n-μc-Si:H/Al, 厚度约1μm,没有背反射电极的情况下,电池效率达到了7.32%(Voc=0.520V,Jsc=21.33mA/cm2,FF=64.74%).

VHF-PECVD、微晶硅、太阳电池

11

O484.4(固体物理学)

国家重点基础研究发展计划973计划G2000028203;G2000028202;教育部科学技术研究项目02167

2006-01-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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功能材料与器件学报

1007-4252

31-1708/TB

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2005,11(4)

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