喷雾热分解法制备SnO2·F薄膜与导电性能研究

摘要：

以SnCl4·5H2O和NH4F为原料,采用喷雾热分解的方法在片状日用玻璃基材和石英玻璃基材上制得了掺氟氧化锡透明导电薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)分别对薄膜的内部结构和表面形貌进行了表征.研究了F-的掺杂量、喷涂温度、沉积时间和热处理对薄膜方阻R□的影响.实验结果表明,当[NH4F]/[SnCl4·5H2O]=32wt%、成膜温度为450℃、喷涂时间为15s时,可使所得薄膜的方阻R□达最低,为10Ω/□.

关键词：掺氟二氧化锡薄膜、喷雾热分解、制备、导电性能

所属期刊栏目：11

分类号：TB34;O484(工程材料学)

资助基金：教育部重点科研项目02188;陕西省西安市科技局资助项目ZS200217

在线出版日期：2005-07-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：202-206