具有可见光活性的TiO2薄膜的制备及光催化性能

摘要：

运用磁控溅射技术在浸渍-提拉法制得的TiO2薄膜上溅射三氧化钨层得到光催化薄膜.采用SEM、XRD、AES、UV-vis漫反射光谱等方法表征催化剂薄膜的厚度、晶相结构、化学元素组成及光吸收性能.以甲基橙的光催化降解为反应模型,高压汞灯为光源,溅射有三氧化钨薄膜的哪光催化活性低于纯TiO2薄膜;滤过紫外光后,溅射有三氧化钨的薄膜光催化活性明显高于纯TiO2薄膜.本实验提供了一种制备高可见光活性的TiO2薄膜的方法.

关键词：薄膜、可见光活性、二氧化钛、磁控溅射、氧化钨

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分类号：TN305.92;O644.1(半导体技术)

资助基金：广东省自然科学基金010873;广东省科技厅科技计划A3040301

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：397-401