类金刚石薄膜作为阴极阵列的场发射显示器研制

摘要：

采用真空磁过滤弧沉积(FAD)的方法制备的类金刚石(DLC)薄膜具有良好的场发射性能.通过离子束技术和微细加工技术可以实现DLC薄膜的图形化并能大大提高薄膜的场发射性能.测试表明,DLC薄膜孔洞阵列具有很好的电子场发射性能,阈值电场达到了2.1V/μm,当场强为14.3V/μm时,电流密度达到了1.23mA/cm2.利用图形化的DLC薄膜作为阴极,设计和制作了矩阵选址单色场发射显示器(FED)样管.

关键词：类金刚石薄膜、图形化、场发射显示器

所属期刊栏目：8

分类号：TN304.1+8(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金59972039;国家重点基础研究发展计划973计划G2000067207-2

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：293-296